SKIN79 Cica Pine Intensive Relief Mask- regenerující plátýnková maska

Čistící a regenerující maska 25 g

 

Dostupnost Skladem
Kód: 913
55 Kč
SKIN79 Cica Pine Intensive Relief Mask- regenerující plátýnková maska

Tato maska obsahuje extrakt z  pupečníku asijského, jehličí a alantoin. Materiál masky je vyroben z rostlinných materiálů. 

Doporučení pro citlivou pokožku, která potřebuje úlevu a hydrataci.

 

Návod k použití:

Naneste na čistou tonizovanou pokožku,

Aplikujte masku a zkontrolujte, zda dobře přilne,

Nechte 10 - 15 minut

Odstraňte masku a jemně vklepejte zbývající esenci do pokožky.

Proč korejská kosmetika?

Korejská kosmetika je vyráběna z unikátních přírodních složek, kyselin a vitamínů.

Korejská holistická filozofie si zakládá na tom, že pleť musí být zdravá uvnitř i navenek. Produkty korejské kosmetiky s přírodním složením se starají o to, aby byla pleť zdravá, hluboce hydratovaná a vyživená. Jen tak může být pleť zdravě zářivá po celý život.

V přírodních extraktech je obrovská síla. Když najdete ty správné, stačí jich tělu jen málo. Protože díky vysoké koncentraci těch správných látek budou skvěle fungovat a Vy budete jednoduše krásná díky korejské kosmetice.

Doplňkové parametry

Kategorie: Korejské pleťové masky
Typ pleti: citlivá, suchá, problematická, smíšená, zralá, s pigmentacemi
Složení: Centella Asiatica Extract, Glycerin, Butylene Glycol, 1,2Hexanediol, Asiaticoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid, Madecassoside, Caprylic/Capric Triglyceride, Cetearyl Alcohol, Hydrogenated Phosphatidylcholine, Sucrose Stearate, Polyglyceryl-10 Laurate, Polyglyceryl-4 Laurate, Caprylyl/Capryl Glucoside, Water, Carbomer, Arginine, Allantoin, Betaine, Xanthan Gum, Pinus Densilora Leaf Extract, Melia Azadirachta Leaf Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Disodium EDTA, Fragrance, Ethylhexylglycerin

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: