SKIN79 Cica Pine Intensive Relief Mask- regenerující plátýnková maska
Čistící a regenerující maska 25 g
Tato maska obsahuje extrakt z pupečníku asijského, jehličí a alantoin. Materiál masky je vyroben z rostlinných materiálů.
Doporučení pro citlivou pokožku, která potřebuje úlevu a hydrataci.
Návod k použití:
Naneste na čistou tonizovanou pokožku,
Aplikujte masku a zkontrolujte, zda dobře přilne,
Nechte 10 - 15 minut
Odstraňte masku a jemně vklepejte zbývající esenci do pokožky.
Proč korejská kosmetika?
Korejská kosmetika je vyráběna z unikátních přírodních složek, kyselin a vitamínů.
Korejská holistická filozofie si zakládá na tom, že pleť musí být zdravá uvnitř i navenek. Produkty korejské kosmetiky s přírodním složením se starají o to, aby byla pleť zdravá, hluboce hydratovaná a vyživená. Jen tak může být pleť zdravě zářivá po celý život.
V přírodních extraktech je obrovská síla. Když najdete ty správné, stačí jich tělu jen málo. Protože díky vysoké koncentraci těch správných látek budou skvěle fungovat a Vy budete jednoduše krásná díky korejské kosmetice.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | Korejské pleťové masky |
|---|---|
| Typ pleti: | citlivá, suchá, problematická, smíšená, vrásky, pigmentace |
| Složení: | Centella Asiatica Extract, Glycerin, Butylene Glycol, 1,2Hexanediol, Asiaticoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid, Madecassoside, Caprylic/Capric Triglyceride, Cetearyl Alcohol, Hydrogenated Phosphatidylcholine, Sucrose Stearate, Polyglyceryl-10 Laurate, Polyglyceryl-4 Laurate, Caprylyl/Capryl Glucoside, Water, Carbomer, Arginine, Allantoin, Betaine, Xanthan Gum, Pinus Densilora Leaf Extract, Melia Azadirachta Leaf Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Disodium EDTA, Fragrance, Ethylhexylglycerin |
| Položka byla vyprodána… | |
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
