SKIN79 Cica Pine Mild Bubble Peeling- peelingová pěna

Jemná peelingová pěna 160 ml

Dostupnost Skladem
Kód: 916
325 Kč
SKIN79 Cica Pine Mild Bubble Peeling- peelingová pěna

Tato jemná peelingová pěna s výtažkem z pupečníku asijského jemně čistí pokožku, odstraňuje odumřelé kožní buňky, vyrovnává tón pleti a minimalizuje póry. Je vhodná pro všechny typy pleti. Nedráždí pokožku je proto vhodná i pro velice citlivou pleť. Inovativní vzorec obsahuje gel uzavřený v pěnové směsi , který důkladně čistí pokožku od všech nečistot a vyhlazuje její povrch. Pěna zároveň minimalizuje výskyt pórů a vyrovnává tón pleti. Má regenerační vlastnosti , urychluje hojení zánětů a zabraňuje tvorbě nových. Po aplikaci pokožka získá svou hebkost, hebkost a zářivý vzhled.

 

Návod k použití:

Před použitím produkt protřepejte. Naneste malé množství pěny na prsty a rovnoměrně naneste na suchou pokožku. Vmasírujte jej do pokožky. Poté jej opláchněte vlažnou vodou.

Používejte jednou týdně.

Proč korejská kosmetika?

Korejská kosmetika je vyráběna z unikátních přírodních složek, kyselin a vitamínů.

Korejská holistická filozofie si zakládá na tom, že pleť musí být zdravá uvnitř i navenek. Produkty korejské kosmetiky s přírodním složením se starají o to, aby byla pleť zdravá, hluboce hydratovaná a vyživená. Jen tak může být pleť zdravě zářivá po celý život.

V přírodních extraktech je obrovská síla. Když najdete ty správné, stačí jich tělu jen málo. Protože díky vysoké koncentraci těch správných látek budou skvěle fungovat a Vy budete jednoduše krásná díky korejské kosmetice.

 

Doplňkové parametry

Kategorie: Pleťové peelingy
Typ pleti: citlivá, suchá, problematická, smíšená, mastná
Složení: Water, Polyglyceryl-4 Caprate, 1,2Hexanediol, Butylene Glycol, Propylene Glycol, Quaternium-60, Carbomer, Glycerin, Fragrance, Sodium Chloride, Allantoin, Ethylhexylglycerin, Pinus Densiflora Leaf Extract, Asiaticoside, Pentylene Glycol, Dextrin, Centella Asiatica Extract, Madecassoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: